据日经BP社报道，大日本印刷计划投资160亿日元，于2006年12月底在京都增建用于生产45nm工艺LSI的曝光掩膜生产线。
支持此工艺的的专用厂房位于大日本印刷曝光掩膜制造基地、京都工厂厂区内，占地面积为1743平米，总建筑面积为5752平米。2006年12月动工，预计2008年1月可开工投产。2008年度计划实现销售额70亿日元，2010年度达到120亿日元。
大日本印刷过去一直由上福冈工厂（埼玉县）负责供尖端工艺使用的曝光掩膜的开发和生产。扩建京都工厂的目的主要是应对尖端产品需求的增长，以及分散受灾时的风险。
信息来源：雅式网络
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